產品詳情
      • 產品名稱:單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)

      • 產品型號:CY-MSP300S-DC
      • 產品廠商:成越科儀
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      簡單介紹:
      單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)我公司研發的實驗室專用鍍膜儀,典型的高速低溫濺射。單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)可選配功率從500W-1000W的直流電源。
      詳情介紹:

      CY-MSP300S-DC單磁控濺射鍍膜儀(直流)為我公司研發的實驗室專用鍍膜儀,設備可選配直流電源,和射頻電源,功率從500W-1000W不等,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。
      磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時間穩定工作。

      設備經過緊湊化設計,實現了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。


      名稱

      單靶磁控濺射鍍膜儀(直流)

      型號
      CY-MSP300S-DC

      特點
      1.能量高速度快
      2.磁控靶配有水冷夾層避免熱量在靶面聚集
      3.基片可加熱至500℃
      4.500-1000W DC 電源
      6.PC+PLC全自動控制

      技術參
      1.  供電電壓 AC220V,50Hz
      2.  整機功率 6KW
      3.  極限真空度 5x10-4Pa
      4.  載樣臺參數 
           尺寸 φ150mm;加熱溫度 *高500℃;控溫精度 ±1℃;轉速 1-20rpm可調
      5.  磁控濺射頭參數 
           數量 1個2”磁控濺射頭;冷卻方式  10L/min流速的循環水冷機
      6.  真空腔體 
           尺寸 φ300mm X 340mm H; 材料 不銹鋼; 觀察窗口 φ100mm;開啟方式 上頂開式,便于更換靶材
      7.  氣體流量控制器 1路200sccm Ar; 
      8.  真空泵 配有一套分子泵系統,抽速600L/S
      9.  膜厚儀 石英振動薄膜測厚儀一臺,分辨率0.10 ?
      10. 濺射電源(DC)
           直流電源,500W-1000W,適用于制備金屬膜
      11. 操作方式 一體機電腦操作

      規格
      整機尺寸 1090mm X 900mm X 1250mm
      整機重量 350kg




      豫公網安備 41019702002438號

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