產品詳情
      • 產品名稱:真空磁控濺射鍍膜系統

      • 產品型號:CY-TRP
      • 產品廠商:成越科儀
      • 產品文檔:
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      簡單介紹:
      真空磁控濺射鍍膜系統主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(三個靶)、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。真空磁控濺射鍍膜系統廣泛應用于科研院所,實驗室制備單層或多層薄膜,以及新材料新工藝研究。
      詳情介紹:

      真空磁控濺射鍍膜系統設備用途:

       用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

      真空磁控濺射鍍膜系統技術參數:

      真空室

      圓筒型前開門結構,尺寸?450×40mm

      真空系統配置

      復合分子泵、機械泵、氣動閘板閥、進口SMC氣缸節流閥

      極限壓力

      6.6 *10-6 Pa。(經烘烤除氣后)

      恢復真空時間

      25 分鐘可達到≤6.6×10-6 Pa。(短時間撰茲大氣并充入干燥氮氣后開始抽氣)

      磁控靶組件

      永磁靶三套;靶材尺寸?60mm(其中一個可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內水冷;三個靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~130mm可調;每個靶配進口 SMC 旋轉氣動擋板

      單基片加熱臺

      樣品尺寸

      ?4英寸

      運動方式

      基片可連續回轉,轉速 030 /

      加熱

      進口加熱絲加熱,zui高加熱溫度 600 ±1

      擋板形式

      進口 SMC 轉角氣缸控制

      氣路系統

      控制器 2

      計算機控制系統

      采用 PLC +工控機+觸摸屏全自動控制方式

      可選配件

      膜厚儀、氣泵、水冷循環機

      設備占地面積

      主機

      I000×1800mm2

      電控柜

      900×600mm2

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