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三英寸三靶磁控溅射镀...三靶磁控镀膜仪可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该三靶磁控溅射镀膜仪与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备
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台式射频电源单靶磁控...本设备为单靶磁控镀膜仪，可用于金属薄膜的制备，在电子领域、光学领域、特殊陶瓷制备等领域均有应用，也可实验室SEM样品制备。本型号配备射频电源，尤其适合非金属或其他非导电材料镀膜
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实验室锂电池卷对卷加...这种全自动卷绕涂布机主要用于实验室涂布液体或胶体膜。该设备采用无级变速电机**控制涂膜速度，从而达到使样品匀速前进而均匀涂膜的目的。刮刀采用全不锈钢材质，重量恒定，可提高涂膜的一致性和均匀性。该设备采用具有真空吸附功能的样品台，可以平稳的吸附样品。同时涂布机具有底部加热功能，加热温度可达120℃，在涂膜过程中实现烤胶功能，从而使膜迅速地干燥，方便收卷操作。
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透明亚克力匀胶机带滴...CY-SP4-D匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用透明亚克力，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，*高转速能达到8000转/秒；控制依靠按键和高亮液晶屏，除直接匀胶外还能预存匀胶曲线进行程控匀胶。本仪器在极大的减小了体积的前提下有效的保障了仪器性能和功能，十分适合实验室选购。
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PP腔体八英寸匀胶机本型号匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用PP工程材料，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，转速能达到10000转/分，有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制，可以预设匀胶曲线，大大简化了使用过程降低了学习成本，十分适合实验室选购。
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亚克力八英寸匀胶机本型号匀胶机经过小型化设计，整体采用铝合金结构，腔体选用透明亚克力，外观美观坚固。仪器采用先进的精密电机，转速能达到10000转/分，有效的保障了成膜的均匀性。另外本仪器采用触控屏控制，可以预设匀胶曲线，大大简化了使用过程降低了学习成本，十分适合实验室选购。
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PE-HPCVD等离...PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积由一台双温区管式炉，一套钨丝蒸发源，一套等离子发生装置以及一套质量流量计组成。PE-HPCVD等离子增强物理化学气相沉积适用于无机复合粉末的热处理及粉末表面的均匀包覆。
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PECVD镀膜仪CY-PECVD-450化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术，能够利用高能量等离子体促进反应过程，有效提升反应速度，降低反应温度。适用于在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂，适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件，可广泛应用于大专院校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。
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碳钨蒸发等离子溅射复...碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪可进行真空蒸碳、真空热蒸发和等离子溅射，它也可以在高纯氩气的保护之下进行多种离子处理，碳钨蒸发等离子溅射复合镀膜仪采用机械泵和分子泵，实现高真空。
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双靶磁控及蒸发复合镀...双靶磁控及蒸发复合镀膜仪不锈钢真空腔体、磁控溅射靶，蒸发镀膜装置，放置样品的样品台，真空泵机组、真空测量规管，进气系统和控制系统组成。双靶磁控及蒸发复合镀膜仪可用于电子产品、玻璃、陶瓷样品、金属等样品的镀膜。
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等离子溅射和蒸发二合...等离子溅射和蒸发二合一镀膜仪配备了直流溅射靶和热蒸发组件，不但可以用于等离子溅射方式镀金属膜，也可以用蒸发的方式得到碳或者其他金属单质的薄膜。仪器元件高度集成化，在同一个腔体内即实现了两种镀膜功能；本镀膜仪采用304不锈钢腔体作真空腔体，镀膜过程完全可见。仪器标配双极旋片真空泵，能够快速达到1.0E-3Pa的真空度,极限真空度1.0E-5Pa，可满足大多数蒸发镀膜实验和二极溅射实验所需的真空环境。本仪器体积小，节省空间，能够置于试验台上使用，一机多用，性价比突出，非常适合各大高校及研究机构选用。
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